日本首台ASMLEUV光刻机下月中旬运抵用于Rapidus晶圆厂试产

日本先进半导体代工企业Rapidus购入的第一台ASMLEUV光刻机将于2024年12月中旬抵达北海道新千岁机场，这也将成为日本全国首台EUV光刻设备。根据Rapidus高管以往表态，该光刻机是较早期的0.33NA型号，而非目前全球总量不足10台的0.55NA（HighNA）款。