维普半导体：光刻机配套IRIS机台交付国内某光刻机客户

维普半导体今日官微消息，7月1日，维普光刻机配套IRIS颗粒检测产品累计第5套顺利发机，交付国内某光刻机客户。IRIS模块-即集成掩模检测系统(IntegratedReticleInspectionSystem)，是光刻机中的一个重要组成部分。其主要作用是对掩模版(即光罩)玻璃面、保护膜面颗粒进行检测，消除因颗粒污染导致光刻后批量Wafer的失效，从而保障半导体晶圆制造的准确性和稳定性。